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拋光工藝與說明

光學加工中,拋光就是研磨,是精磨以后的主要工序。[)工件在精磨之后,雖然具有一定的光滑和規則的表面形狀,但它還不完全透明而且表面形狀也不是所要求的,需要經過拋光才能成為所要求的拋光表面。研磨拋光是獲得光學表面的最主要的工序。

平面雙面研磨拋光顧名思義就是對大量平面零件上下兩個表面同時加工進行高速拋光。拋光中主要的是對磨盤的修正(修盤)、工藝參數、拋光液的濃度、PH值、機器的清洗等系列的掌握和理解。

拋光是零件加工中的最后工序,質量的要求很高,面對劃痕、麻點、破邊等系列的問題都有他的解決方法。

光學玻璃在拋光過程中及拋光下盤以后的腐蝕問題,長期以來一直影響著這些光學玻璃零件的加工質量和生產效率。例如對化學穩定性差的光學玻璃拋光液中,添加適當的pH值調節劑,減少了一系列化學穩定性差的光學玻璃在拋光過程中的腐蝕問題,顯著提高了拋光表面質量和合格率,并進一步提高了光學玻璃零件加工的效率和效益及其工藝技術水平。


一 拋光的基礎

(一) 拋光機理

現在的拋光可歸納為三種理論:機械磨削理論、化學作用理論、表面流動理論。三種理論在不同程度上都有一定的正確性。

1.機械磨削理論

拋光是研磨的繼續,拋光與研磨的本質是相同的,都是尖硬的磨料顆粒對玻璃表面進行微小切削作用的結果。但由于拋光是用較細顆粒的拋光劑,所以微小切削作用可以在分子大小范圍內進行。由于拋光模與工件表面相當吻合,因此拋光時切向力特別大,從而使玻璃表面凸凹的微痕結構被切削掉,逐漸形成光滑的表面。

2.化學作用理論

拋光過程是在玻璃表面、拋光劑、拋光模和水的作用下,發生的錯綜復雜的化學過程。主要是玻璃表面發生的水解過程。

3.表面流動理論

玻璃表面由于高壓和相對運動,摩擦生熱致使表面產生塑性流動,凸起的部分將凹陷填平,形成光滑的拋光表面。這種理論的試驗依據是:拋光表面用金剛石劃成圖案,然后拋掉,再用酸腐蝕,結果看到劃痕再現。另一試驗發現,由拋去厚度計算的拋去重量比實測的大得多,于是認為拋去的玻璃填到表面凸凹層的谷部。由此說明拋光過程是流動作用的覆蓋,但這與工件拋光后有重量減輕的事實相矛盾,另外,軟化點的玻璃,拋光速率低,這也可以說明這種理論的正確性,但它不適用ZK9和所有硼酸玻璃。

綜上所述,拋光過程是極其復雜的,至今沒有得出完善而統一的結論。但是普遍承認的觀點是:機械磨削作用是基本的,化學作用是重要的,至于表面流動理論也可能存在。

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